ANSYS 工程模拟方案过台积电 7 奈米 + FinFET Plus 先进制程认证
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工程模拟厂商 ANSYS 宣布，采极紫外线微影 （extremeultravioletlithography ; EUV） 技术的 7 奈米 FinFET Plus （N7+） 制程节点的 ANSYS 解决方案已获台积电的认证，台积电亦验证最新 InFO_MS （Integrated Fan-Out with Memory on Substrate） 先进封装技此项验证的通过技术的参考流程。对无晶圆厂 （fabless） IC设计公司而言，由于模拟工具需通过新制程节点和封装技术严格测试与确认，因此认证与验证非常重要。
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